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Líquido transparente incoloro
75-59-2
C4H13NO
91.15
200-882-9
Soluble en agua
Descripción del Producto
El hidróxido de tetrametilamonio (TMAH) es un compuesto de amonio cuaternario con número CAS 75-59-2. Como agente alcalino sin iones metálicos, el TMAH sirve como un reemplazo eficaz de bases inorgánicas como KOH o NaOH en procesos que requieren una pureza ultraalta.
Hidróxido de tetrametilamonio (TMAH), una poderosa base orgánica ampliamente utilizada en procesos de fabricación de semiconductores, fotolitografía, grabado y limpieza.
| TEMA | PRESUPUESTO |
| Apariencia | Líquido transparente incoloro |
| Ensayo | solución de agua al 25% |
Peso neto tambor de 200 kg o tambor IBC de 1000 kg.
Conservar en recipiente herméticamente cerrado, proteger de la luz.
Sin iones metálicos:
Previene la contaminación iónica en obleas y dispositivos semiconductores sensibles.
Fuertes propiedades alcalinas:
Excelente para grabado anisotrópico de silicio y revelado de fotoprotectores ácidos.
Alta selectividad:
Proporciona tasas de grabado controladas con un mínimo de socavado en la microfabricación.
Formulaciones versátiles:
Compatible con diversas concentraciones y disolventes para soluciones personalizadas de revelador, grabador o limpiador.
Limpieza y decapado efectivos:
Elimina eficazmente los residuos de fotoprotectores manteniendo la integridad de la superficie.
TMAH es esencial en la producción moderna de semiconductores y más allá:
Revelador de fotorresistente: Estándar en concentración de fotolitografía para disolver el fotorresistente expuesto.
Grabador de silicio anisotrópico: se utiliza para crear patrones precisos de obleas de silicio en MEMS y circuitos integrados.
Decapante fotorresistente y limpiador post-grabado: Elimina residuos sin contaminación del metal.
Pantallas planas, PCB y sensores: fundamentales para la fabricación de paneles LCD/OLED y placas de circuito impreso.
Catalizador de transferencia de fase en síntesis orgánica.
Surfactante en producción de ferrofluidos y estabilización de nanopartículas.
Componente de formulación en polímeros, electrolitos, zeolitas y aplicaciones de almacenamiento de energía.
Termoquimiolisis y limpieza de microarrays de ADN en entornos de investigación.
P: ¿Es seguro utilizar TMAH?
R: No. TMAH es altamente corrosivo y extremadamente tóxico. Debe manipularse con extrema precaución utilizando equipo de protección personal completo y controles de ingeniería adecuados. Cualquier exposición de la piel requiere atención médica inmediata.
P: ¿Por qué se prefiere el TMAH al KOH o NaOH en los semiconductores?
R: TMAH no contiene iones metálicos, lo que evita la contaminación de obleas y dispositivos y, al mismo tiempo, proporciona un excelente rendimiento de grabado y revelado.
P: ¿Cuáles son los principales peligros de la TMAH?
R: Provoca quemaduras químicas graves en la piel y los ojos y puede provocar toxicidad sistémica a través de la absorción cutánea. También es perjudicial para el medio ambiente.
P: ¿Cómo se debe almacenar TMAH?
R: Almacene en recipientes herméticamente cerrados en un área fresca, seca y bien ventilada, lejos de ácidos, oxidantes y aire.
P: ¿Se puede utilizar TMAH en aplicaciones alimentarias o farmacéuticas?
R: No. TMAH está destinado únicamente para uso industrial, de laboratorio y electrónico y no es adecuado para aplicaciones alimentarias, farmacéuticas o cosméticas.
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CERTIFICADO DE AUTENTICACIÓN
