Anda di sini: Rumah » Produk » Bahan Kimia Halus » Tetrametilamonium Hidroksida (TMAH)

Bagikan ke:

Tetrametilamonium Hidroksida (TMAH)

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH), basa organik kuat yang banyak digunakan dalam proses manufaktur semikonduktor, fotolitografi, etsa, dan pembersihan.

Penampilan:
Cairan transparan tidak berwarna
Nomor CAS:
75-59-2
Rumus Molekul:
C4H13NO
Berat Molekul:
91.15
EINECS:
200-882-9
Kelarutan:
Larut dalam air

Tersedianya:



Pertanyaan Tambahkan ke Keranjang

Deskripsi Produk

Deskripsi Produk

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) merupakan senyawa amonium kuaterner dengan Nomor CAS 75-59-2. Sebagai bahan alkali bebas ion logam, TMAH berfungsi sebagai pengganti efektif basa anorganik seperti KOH atau NaOH dalam proses yang memerlukan kemurnian sangat tinggi.

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH), basa organik kuat yang banyak digunakan dalam proses manufaktur semikonduktor, fotolitografi, etsa, dan pembersihan.

Spesifikasi Teknis

TEMS	SPESIFIKASI
Penampilan	Cairan transparan tidak berwarna
pengujian	larutan air 25%.

Pengemasan & Penyimpanan

Berat bersih drum 200kg atau drum IBC 1000kg.
Simpan dalam wadah tertutup rapat, terlindung dari cahaya.

Manfaat Utama Tetrametilammonium Hidroksida (TMAH)

Bebas Logam-Ion:

Mencegah kontaminasi ionik pada wafer dan perangkat semikonduktor sensitif.

Sifat Alkali Kuat:

Sangat baik untuk etsa silikon anisotropik dan mengembangkan photoresist asam.

Selektivitas Tinggi:

Memberikan tingkat etsa yang terkendali dengan pemotongan minimal dalam fabrikasi mikro.

Formulasi Serbaguna:

Kompatibel dengan berbagai konsentrasi dan pelarut untuk larutan pengembang khusus, etsa, atau pembersih.

Pembersihan dan Pengupasan yang Efektif:

Menghilangkan residu photoresist secara efisien sambil menjaga integritas permukaan.

Aplikasi Utama Tetrametilammonium Hidroksida (TMAH)

TMAH sangat penting dalam produksi semikonduktor modern dan seterusnya:

Industri Semikonduktor dan Elektronika

Pengembang Photoresist: Standar dalam konsentrasi fotolitografi untuk melarutkan photoresist yang terbuka.
Etchant Silikon Anisotropik: Digunakan untuk pola wafer silikon yang presisi di MEMS dan sirkuit terpadu.
Photoresist Stripper dan Post-Etch Cleaner: Menghilangkan residu tanpa kontaminasi logam.
Layar Panel Datar, PCB, dan Sensor: Penting untuk pembuatan panel LCD/OLED dan papan sirkuit cetak.

Kegunaan Industri Lainnya

Katalis transfer fasa dalam sintesis organik.
Surfaktan dalam produksi ferrofluid dan stabilisasi nanopartikel.
Komponen formulasi dalam aplikasi polimer, elektrolit, zeolit, dan penyimpanan energi.
Termokemolisis dan pembersihan microarray DNA dalam pengaturan penelitian.

Pertanyaan yang Sering Diajukan (FAQ)

Q: Apakah TMAH aman digunakan?

J: Tidak. TMAH sangat korosif dan sangat beracun. Ini harus ditangani dengan sangat hati-hati dengan menggunakan peralatan pelindung diri lengkap dan kontrol teknis yang tepat. Paparan kulit apa pun memerlukan perhatian medis segera.

T: Mengapa TMAH lebih disukai dibandingkan KOH atau NaOH dalam semikonduktor?

J: TMAH bebas ion logam, mencegah kontaminasi wafer dan perangkat sekaligus memberikan kinerja etsa dan pengembangan yang sangat baik.

T: Apa bahaya utama TMAH?

J: Ini menyebabkan luka bakar kimiawi yang parah pada kulit dan mata dan dapat menyebabkan toksisitas sistemik melalui penyerapan kulit. Hal ini juga berbahaya bagi lingkungan.

Q: Bagaimana cara menyimpan TMAH?

J: Simpan dalam wadah tertutup rapat di tempat sejuk, kering, berventilasi baik, jauh dari asam, oksidator, dan udara.

T: Dapatkah TMAH digunakan dalam aplikasi makanan atau farmasi?

J: Tidak. TMAH ditujukan untuk penggunaan industri, laboratorium, dan elektronik saja dan tidak cocok untuk aplikasi makanan, obat-obatan, atau kosmetik.