Tetrametilammónium-hidroxid (TMAH)

A tetrametilammónium-hidroxid (TMAH) egy kvaterner ammóniumvegyület, amelynek CAS-száma 75-59-2. Fémionmentes lúgos anyagként a TMAH hatékonyan helyettesíti az olyan szervetlen bázisokat, mint a KOH vagy a NaOH az ultranagy tisztaságot igénylő eljárásokban.

A tetrametilammónium-hidroxid (TMAH), egy erős szerves bázis, amelyet széles körben használnak a félvezetőgyártásban, fotolitográfiában, maratási és tisztítási folyamatokban.

Műszaki előírások

TEMS	MŰSZAKI ADATOK
Megjelenés	Színtelen átlátszó folyadék
Assay	25%-os vizes oldat

Csomagolás és tárolás

• Nettó tömeg 200 kg dob vagy 1000 kg IBC dob.

• Szorosan lezárt tartályban, fénytől védve tárolandó.

A tetrametilammónium-hidroxid (TMAH) fő előnyei

Fémionmentes:

Megakadályozza az ionos szennyeződést az érzékeny félvezető lapkákban és eszközökben.

Erős lúgos tulajdonságok:

Kiválóan alkalmas szilícium anizotróp maratására és savas fotorezisztek előhívására.

Magas szelektivitás:

Szabályozott maratási sebességet biztosít minimális alávágással a mikrogyártás során.

Sokoldalú formulák:

Különféle koncentrációjú és oldószerekkel kompatibilis egyedi előhívó-, marató- vagy tisztító oldatokhoz.

Hatékony tisztítás és csupaszítás:

Hatékonyan távolítja el a fotoreziszt maradványokat, miközben megőrzi a felület integritását.

Elsődleges alkalmazások Tetrametilammónium-hidroxid (TMAH)

A TMAH nélkülözhetetlen a modern félvezetőgyártásban és azon túl is:

Félvezető- és elektronikai ipar

• Fotoreziszt Fejlesztő: Szabványos fotolitográfiás koncentrációban az exponált fotoreziszt feloldásához.

• Anizotróp szilícium maratószer: precíz szilíciumlapka-mintázathoz használják MEMS-ben és integrált áramkörökben.

• Photoresist Stripper és Post-Etch Cleaner: Eltávolítja a maradványokat fémszennyeződés nélkül.

• Lapos kijelzők, PCB-k és érzékelők: kritikus fontosságúak az LCD/OLED panelek és nyomtatott áramköri lapok gyártásához.

Egyéb ipari felhasználások

• Fázistranszfer katalizátor szerves szintézisben.

• Felületaktív anyag a ferrofluid előállításában és a nanorészecskék stabilizálásában.

• Kiszerelési komponens polimerekben, elektrolitokban, zeolitokban és energiatároló alkalmazásokban.

• Termokemolízis és DNS microarray tisztítás kutatási környezetben.

Gyakran Ismételt Kérdések (GYIK)

K: Biztonságos a TMAH használata?

V: Nem. A TMAH erősen maró hatású és akut mérgező. Rendkívül óvatosan kell kezelni, teljes egyéni védőfelszerelés és megfelelő műszaki ellenőrzés mellett. Bármilyen bőrrel való érintkezés azonnali orvosi ellátást igényel.

K: Miért részesítik előnyben a TMAH-t a KOH-val vagy a NaOH-val szemben a félvezetőkben?

V: A TMAH fémionmentes, megakadályozza az ostyák és eszközök szennyeződését, miközben kiváló maratást és fejlesztési teljesítményt biztosít.

K: Melyek a TMAH fő veszélyei?

V: Súlyos kémiai égési sérüléseket okoz a bőrön és a szemen, és a bőrön keresztüli felszívódás révén szisztémás toxicitáshoz vezethet. A környezetre is káros.

K: Hogyan kell a TMAH-t tárolni?

V: Tárolja szorosan lezárt tartályokban, hűvös, száraz, jól szellőző helyen, savaktól, oxidálószerektől és levegőtől távol.

K: Használható-e a TMAH élelmiszeripari vagy gyógyszerészeti alkalmazásokban?

V: Nem. A TMAH kizárólag ipari, laboratóriumi és elektronikai használatra készült, és nem alkalmas élelmiszer-, gyógyszer- vagy kozmetikai felhasználásra.

Lépjen kapcsolatba velünk

COA, TDS, SDS vagy kapcsolódó termékekkel kapcsolatban, kérjük, vegye fel velünk a kapcsolatot a következő címen:

Email: mandy@aozunchem.com

WhatsApp:  +86- 18452425579

HITELESÍTÉSI TANÚSÍTVÁNY