Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

Ang Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) ay isang quaternary ammonium compound na may CAS Number 75-59-2. Bilang isang metal-ion-free alkaline agent, ang TMAH ay nagsisilbing epektibong kapalit para sa mga inorganic na base tulad ng KOH o NaOH sa mga prosesong nangangailangan ng napakataas na kadalisayan.

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH), isang malakas na organikong base na malawakang ginagamit sa paggawa ng semiconductor, photolithography, pag-ukit, at mga proseso ng paglilinis.

Teknikal na Pagtutukoy

TEMS	MGA ESPISIPIKASYON
Hitsura	Walang kulay na transparent na likido
Pagsusuri	25% solusyon sa tubig

Packaging at Imbakan

• Net weight 200kg drum o 1000kg IBC drum.

• Iimbak sa mahigpit na selyadong lalagyan, protektahan mula sa liwanag.

Mga Pangunahing Benepisyo ng Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

Metal-Ion-Free:

Pinipigilan ang kontaminasyon ng ionic sa mga sensitibong semiconductor na wafer at device.

Malakas na Alkaline Properties:

Mahusay para sa anisotropic etching ng silicon at pagbuo ng acidic photoresists.

Mataas na Selectivity:

Nagbibigay ng kinokontrol na mga rate ng pag-ukit na may kaunting undercutting sa microfabrication.

Maraming nagagawang Formulasyon:

Tugma sa iba't ibang konsentrasyon at solvent para sa custom na developer, etchant, o mas malinis na solusyon.

Mabisang Paglilinis at Paghuhubad:

Mahusay na nag-aalis ng mga residue ng photoresist habang pinapanatili ang integridad ng ibabaw.

Pangunahing Aplikasyon Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

Ang TMAH ay mahalaga sa modernong produksyon ng semiconductor at higit pa:

Industriya ng Semiconductor at Electronics

• Photoresist Developer: Pamantayan sa konsentrasyon ng photolithography upang matunaw ang nakalantad na photoresist.

• Anisotropic Silicon Etchant: Ginagamit para sa tumpak na silicone wafer patterning sa MEMS at integrated circuits.

• Photoresist Stripper at Post-Etch Cleaner: Tinatanggal ang mga nalalabi nang walang kontaminasyong metal.

• Mga Flat Panel Display, PCB, at Sensor: Kritikal para sa paggawa ng mga panel ng LCD/OLED at mga naka-print na circuit board.

Iba Pang Pang-industriya na Gamit

• Phase transfer catalyst sa organic synthesis.

• Surfactant sa ferrofluid production at nanoparticle stabilization.

• Bahagi ng pagbabalangkas sa mga polymer, electrolytes, zeolite, at mga aplikasyon ng pag-iimbak ng enerhiya.

• Thermochemolysis at DNA microarray na paglilinis sa mga setting ng pananaliksik.

Mga Madalas Itanong (FAQs)

T: Ligtas bang gamitin ang TMAH?

A: Hindi. Ang TMAH ay lubhang kinakaing unti-unti at lubhang nakakalason. Dapat itong pangasiwaan nang may matinding pag-iingat gamit ang buong personal na kagamitan sa proteksyon at wastong mga kontrol sa engineering. Ang anumang pagkakalantad sa balat ay nangangailangan ng agarang medikal na atensyon.

T: Bakit mas pinipili ang TMAH kaysa KOH o NaOH sa mga semiconductor?

A: Ang TMAH ay metal-ion-free, na pumipigil sa kontaminasyon ng mga wafer at device habang nagbibigay ng mahusay na pag-ukit at pagbuo ng pagganap.

Q: Ano ang mga pangunahing panganib ng TMAH?

A: Nagdudulot ito ng matinding pagkasunog ng kemikal sa balat at mata at maaaring humantong sa systemic toxicity sa pamamagitan ng pagsipsip ng balat. Nakakasama rin ito sa kapaligiran.

Q: Paano dapat iimbak ang TMAH?

A: Itago sa mahigpit na selyadong mga lalagyan sa isang malamig, tuyo, well-ventilated na lugar na malayo sa mga acid, oxidizer, at hangin.

T: Maaari bang gamitin ang TMAH sa mga aplikasyon ng pagkain o parmasyutiko?

A: Hindi. Ang TMAH ay inilaan para sa pang-industriya, laboratoryo, at paggamit ng electronics lamang at hindi angkop para sa pagkain, gamot, o kosmetikong aplikasyon.

Makipag-ugnayan sa Amin

Para sa COA, TDS, SDS o mga kaugnay na produkto, mangyaring makipag-ugnayan sa amin sa:

Email: mandy@aozunchem.com

WhatsApp:  +86- 18452425579

AUTENTICATION CERTIFICATE