Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) គឺជាសមាសធាតុអាម៉ូញ៉ូម quaternary ដែលមានលេខ CAS 75-59-2 ។ ក្នុងនាមជាភ្នាក់ងារអាល់កាឡាំងគ្មានជាតិដែកអ៊ីយ៉ុង TMAH បម្រើជាការជំនួសដ៏មានប្រសិទ្ធភាពសម្រាប់មូលដ្ឋានអសរីរាង្គដូចជា KOH ឬ NaOH ក្នុងដំណើរការដែលទាមទារភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ជ្រុល។

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) ដែលជាមូលដ្ឋានសរីរាង្គដ៏មានឥទ្ធិពលដែលត្រូវបានប្រើប្រាស់យ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងការផលិត semiconductor, photolithography, etching និងដំណើរការសម្អាត។

លក្ខណៈបច្ចេកទេស

TEMS	ភាពជាក់លាក់
រូបរាង	វត្ថុរាវថ្លាគ្មានពណ៌
ការវិភាគ	ដំណោះស្រាយទឹក 25%

ការវេចខ្ចប់ និងការផ្ទុក

• ទម្ងន់សុទ្ធ 200kg ស្គរ ឬ 1000kg IBC ស្គរ។

• ទុកក្នុងធុងបិទជិត ការពារពីពន្លឺ។

អត្ថប្រយោជន៍សំខាន់ៗនៃ Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

អ៊ីយ៉ុងគ្មានលោហៈ៖

ការពារការចម្លងរោគអ៊ីយ៉ុងនៅក្នុង wafers semiconductor ដែលងាយរងគ្រោះ និងឧបករណ៍។

លក្ខណៈសម្បត្តិអាល់កាឡាំងខ្លាំង៖

ល្អសម្រាប់ anisotropic etching នៃ silicon និងការអភិវឌ្ឍ photoresists អាស៊ីត។

ការជ្រើសរើសខ្ពស់៖

ផ្តល់នូវអត្រាការឆ្លាក់ដែលបានគ្រប់គ្រងជាមួយនឹងការកាត់តិចតួចបំផុតនៅក្នុង microfabrication ។

រូបមន្តចម្រុះ៖

ឆបគ្នាជាមួយនឹងការប្រមូលផ្តុំ និងសារធាតុរំលាយផ្សេងៗសម្រាប់អ្នកអភិវឌ្ឍន៍ផ្ទាល់ខ្លួន ដំណោះស្រាយ etchant ឬស្អាតជាង។

ការសម្អាត និងការដកយកចេញប្រកបដោយប្រសិទ្ធភាព៖

កម្ចាត់សំណល់ photoresist យ៉ាងមានប្រសិទ្ធភាព ខណៈពេលដែលរក្សាបាននូវភាពសុចរិតនៃផ្ទៃ។

កម្មវិធីបឋម Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

TMAH មានសារៈសំខាន់ក្នុងការផលិត semiconductor ទំនើប និងលើសពីនេះ៖

គ្រឿងអេឡិចត្រូនិក និងគ្រឿងអេឡិចត្រូនិក

• អ្នកអភិវឌ្ឍន៍ Photoresist៖ ស្តង់ដារក្នុងការប្រមូលផ្តុំ photolithography ដើម្បីរំលាយ photoresist ដែលប៉ះពាល់។

• Anisotropic Silicon Etchant: ប្រើសម្រាប់ការធ្វើគំរូស៊ីលីកុន wafer ច្បាស់លាស់នៅក្នុង MEMS និងសៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នា។

• Photoresist Stripper និង Post-Etch Cleaner: យកសំណល់ដោយមិនមានការចម្លងរោគពីលោហៈ។

• ការបង្ហាញបន្ទះរាបស្មើ PCBs និងឧបករណ៍ចាប់សញ្ញា៖ មានសារៈសំខាន់សម្រាប់ការផលិតបន្ទះ LCD/OLED និងបន្ទះសៀគ្វីដែលបានបោះពុម្ព។

ការប្រើប្រាស់ឧស្សាហកម្មផ្សេងទៀត។

• កាតាលីករផ្ទេរដំណាក់កាលក្នុងការសំយោគសរីរាង្គ។

• Surfactant នៅក្នុងការផលិត ferrofluid និងស្ថេរភាព nanoparticle ។

• សមាសធាតុបង្កើតនៅក្នុងប៉ូលីម័រ អេឡិចត្រូលីត ហ្សីអូលីត និងកម្មវិធីផ្ទុកថាមពល។

• ការសម្អាតកម្ដៅ និងការសម្អាតមីក្រូអារេ DNA នៅក្នុងការកំណត់ស្រាវជ្រាវ។

សំណួរដែលគេសួរញឹកញាប់ (FAQs)

សំណួរ៖ តើ TMAH មានសុវត្ថិភាពសម្រាប់ការប្រើប្រាស់ដែរឬទេ?

ចម្លើយ៖ ទេ TMAH មានសារធាតុច្រេះ និងពុលខ្លាំង។ វាត្រូវតែត្រូវបានដោះស្រាយដោយប្រុងប្រយ័ត្នបំផុតដោយប្រើឧបករណ៍ការពារផ្ទាល់ខ្លួនពេញលេញ និងការគ្រប់គ្រងវិស្វកម្មត្រឹមត្រូវ។ ការប៉ះពាល់ស្បែកណាមួយតម្រូវឱ្យមានការយកចិត្តទុកដាក់ខាងវេជ្ជសាស្ត្រជាបន្ទាន់។

សំណួរ៖ ហេតុអ្វីបានជា TMAH ត្រូវបានគេពេញចិត្តជាង KOH ឬ NaOH នៅក្នុង semiconductors?

A: TMAH គឺមិនមានជាតិអ៊ីយ៉ុង ការពារការចម្លងរោគនៃ wafers និងឧបករណ៍ ខណៈពេលដែលផ្តល់នូវការឆ្លាក់ដ៏ល្អឥតខ្ចោះ និងការអភិវឌ្ឍន៍ដំណើរការ។

សំណួរ៖ តើអ្វីជាគ្រោះថ្នាក់ចម្បងរបស់ TMAH?

ចម្លើយ៖ វាបណ្តាលឱ្យរលាកស្បែក និងភ្នែកធ្ងន់ធ្ងរ ហើយអាចបណ្តាលឱ្យមានការពុលជាប្រព័ន្ធតាមរយៈការស្រូបចូលស្បែក។ វាក៏មានគ្រោះថ្នាក់ដល់បរិស្ថានផងដែរ។

សំណួរ៖ តើ TMAH គួររក្សាទុកដោយរបៀបណា?

ចម្លើយ៖ ទុកក្នុងធុងបិទជិតក្នុងកន្លែងត្រជាក់ ស្ងួត និងមានខ្យល់ចេញចូលបានល្អ ឆ្ងាយពីអាស៊ីត សារធាតុអុកស៊ីតកម្ម និងខ្យល់។

សំណួរ៖ តើ TMAH អាចប្រើប្រាស់ក្នុងកម្មវិធីម្ហូបអាហារ ឬឱសថបានទេ?

ចម្លើយ៖ ទេ TMAH ត្រូវបានបម្រុងទុកសម្រាប់ប្រើប្រាស់ក្នុងឧស្សាហកម្ម មន្ទីរពិសោធន៍ និងគ្រឿងអេឡិចត្រូនិកតែប៉ុណ្ណោះ និងមិនស័ក្តិសមសម្រាប់កម្មវិធីអាហារ ឱសថ ឬគ្រឿងសម្អាង។

ទាក់ទងមកយើងខ្ញុំ

សម្រាប់ COA, TDS, SDS ឬផលិតផលដែលពាក់ព័ន្ធ សូមទាក់ទងមកយើងខ្ញុំតាមរយៈ៖

អ៊ីមែល៖ mandy@aozunchem.com

WhatsApp៖  +86- 18452425579

វិញ្ញាបនបត្របញ្ជាក់