Тетраметиламониев хидроксид (TMAH)

Тетраметиламониевият хидроксид (TMAH) е кватернерно амониево съединение с CAS номер 75-59-2. Като алкален агент без метални йони, TMAH служи като ефективен заместител на неорганични основи като KOH или NaOH в процеси, изискващи свръхвисока чистота.

Тетраметиламониев хидроксид (TMAH), мощна органична основа, широко използвана в производството на полупроводници, фотолитография, ецване и процеси на почистване.

Технически спецификации

TEMS	СПЕЦИФИКАЦИИ
Външен вид	Безцветна прозрачна течност
Анализ	25% воден разтвор

Опаковка и съхранение

• Нето тегло 200 кг барабан или 1000 кг IBC барабан.

• Съхранявайте в плътно затворен контейнер, защитен от светлина.

Основни предимства на тетраметиламониев хидроксид (TMAH)

Без метални йони:

Предотвратява йонно замърсяване в чувствителни полупроводникови пластини и устройства.

Силни алкални свойства:

Отличен за анизотропно ецване на силиций и разработване на киселинни фоторезисти.

Висока селективност:

Осигурява контролирани скорости на ецване с минимално подрязване при микропроизводство.

Разнообразни формулировки:

Съвместим с различни концентрации и разтворители за индивидуален проявител, ецващ или почистващ разтвор.

Ефективно почистване и оголване:

Отстранява ефективно остатъците от фоторезист, като същевременно запазва целостта на повърхността.

Основни приложения Тетраметиламониев хидроксид (TMAH)

TMAH е от съществено значение в съвременното производство на полупроводници и извън него:

Полупроводникова и електронна индустрия

• Проявител на фоторезист: Стандартна концентрация за фотолитография за разтваряне на експонирания фоторезист.

• Анизотропен силициев ецвач: Използва се за прецизно моделиране на силициеви пластини в MEMS и интегрални схеми.

• Препарат за отстраняване на фоторезист и почистващ препарат след ецване: Отстранява остатъците без замърсяване с метал.

• Дисплеи с плосък панел, печатни платки и сензори: Критични за производството на LCD/OLED панели и печатни платки.

Други промишлени употреби

• Фазов трансферен катализатор в органичния синтез.

• Повърхностно активно вещество в производството на ферофлуид и стабилизиране на наночастици.

• Компонент на формула в полимери, електролити, зеолити и приложения за съхранение на енергия.

• Термохемолиза и почистване на ДНК микрочипове в изследователски условия.

Често задавани въпроси (ЧЗВ)

Въпрос: Безопасен ли е TMAH за употреба?

О: Не. TMAH е силно корозивен и остро токсичен. Трябва да се борави с изключително внимание, като се използват пълни лични предпазни средства и подходящ инженерен контрол. Всяко излагане на кожата изисква незабавна медицинска помощ.

Въпрос: Защо TMAH се предпочита пред KOH или NaOH в полупроводниците?

О: TMAH не съдържа метални йони, предотвратявайки замърсяване на вафли и устройства, като същевременно осигурява отлично ецване и развиваща производителност.

Въпрос: Какви са основните опасности от TMAH?

О: Причинява тежки химически изгаряния на кожата и очите и може да доведе до системна токсичност чрез абсорбиране от кожата. Вреден е и за околната среда.

Въпрос: Как трябва да се съхранява TMAH?

О: Съхранявайте в плътно затворени контейнери на хладно, сухо и добре проветриво място, далеч от киселини, окислители и въздух.

В: Може ли TMAH да се използва в хранителни или фармацевтични приложения?

О: Не. TMAH е предназначен само за промишлена, лабораторна и електронна употреба и не е подходящ за храни, лекарства или козметични приложения.

Свържете се с нас

За COA, TDS, SDS или свързани продукти, моля свържете се с нас на:

Имейл: mandy@aozunchem.com

WhatsApp:  +86- 18452425579

СЕРТИФИКАТ ЗА УВЕРЯВАНЕ