Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH)

Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH) je kvarterna amonijeva spojina s številko CAS 75-59-2. Kot alkalno sredstvo brez kovinskih ionov TMAH služi kot učinkovit nadomestek za anorganske baze, kot sta KOH ali NaOH, v procesih, ki zahtevajo izjemno visoko čistost.

Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH), močna organska baza, ki se pogosto uporablja v proizvodnji polprevodnikov, fotolitografiji, jedkanju in postopkih čiščenja.

Tehnične specifikacije

TEMS	SPECIFIKACIJE
Videz	Brezbarvna prozorna tekočina
Test	25% vodna raztopina

Pakirana odpornost na visoke temperature

• Neto teža 200 kg sod ali 1000 kg IBC boben.

• Shranjujte v tesno zaprti posodi, zaščiteno pred svetlobo.

Ključne prednosti tetrametilamonijevega hidroksida (TMAH)

Brez kovinskih ionov:

Preprečuje ionsko onesnaženje v občutljivih polprevodniških rezinah in napravah.

Močne alkalne lastnosti:

Odlično za anizotropno jedkanje silicija in razvijanje kislih fotorezistov.

Visoka selektivnost:

Zagotavlja nadzorovane stopnje jedkanja z minimalnim podrezovanjem pri mikroizdelavi.

Vsestranske formulacije:

Združljivo z različnimi koncentracijami in topili za razvijalce po meri, raztopine za jedkanje ali čistila.

Učinkovito čiščenje in odstranjevanje:

Učinkovito odstrani ostanke fotorezista, hkrati pa ohranja celovitost površine.

Primarne uporabe Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH)

TMAH je bistvenega pomena v sodobni proizvodnji polprevodnikov in širše:

Polprevodniška in elektronska industrija

• Razvijalec fotorezista: Standardna koncentracija za fotolitografijo za raztapljanje izpostavljenega fotorezista.

• Anisotropic Silicon Etchant: Uporablja se za natančno vzorčenje silicijevih rezin v MEMS in integriranih vezjih.

• Odstranjevalec fotorezista in čistilo za naknadno jedkanje: Odstrani ostanke brez kovinske kontaminacije.

• Zasloni z ravnim zaslonom, PCB-ji in senzorji: kritični za proizvodnjo plošč LCD/OLED in tiskanih vezij.

Druge industrijske uporabe

• Katalizator faznega prenosa v organski sintezi.

• Površinsko aktivna snov pri proizvodnji ferrofluidov in stabilizaciji nanodelcev.

• Komponenta formulacije v polimerih, elektrolitih, zeolitih in aplikacijah za shranjevanje energije.

• Termokemoliza in čiščenje mikromrež DNK v raziskovalnih okoljih.

Pogosto zastavljena vprašanja (FAQ)

V: Ali je TMAH varen za uporabo?

O: Ne. TMAH je zelo jedek in akutno strupen. Z njim je treba ravnati skrajno previdno z uporabo popolne osebne zaščitne opreme in ustreznega inženirskega nadzora. Vsaka izpostavljenost kože zahteva takojšnjo zdravniško pomoč.

V: Zakaj je v polprevodnikih prednost TMAH pred KOH ali NaOH?

O: TMAH ne vsebuje kovinskih ionov, kar preprečuje kontaminacijo rezin in naprav, hkrati pa zagotavlja odlično jedkanje in razvijanje.

V: Katere so glavne nevarnosti TMAH?

O: Povzroča hude kemične opekline kože in oči ter lahko povzroči sistemsko toksičnost zaradi absorpcije kože. Škodljivo je tudi okolju.

V: Kako je treba hraniti TMAH?

O: Hraniti v tesno zaprtih posodah na hladnem, suhem, dobro prezračevanem mestu, stran od kislin, oksidantov in zraka.

V: Ali se lahko TMAH uporablja v prehrambeni ali farmacevtski industriji?

O: Ne. TMAH je namenjen samo za uporabo v industriji, laboratoriju in elektroniki ter ni primeren za uporabo v hrani, zdravilih ali kozmetiki.

Kontaktirajte nas

Za COA, TDS, SDS ali sorodne izdelke nas kontaktirajte na:

E-pošta: mandy@aozunchem.com

WhatsApp:  +86- 18452425579

POTRDILO O AVTENTIKACIJI