|
Hyalina pellucida liquida
75-59-2
C4H13NO
91.15
200-882-9
Solutum in aqua
Product Description
Tetramethylammonium hydroxide (TMAH) est ammonium quaternarium compositum cum CAS numero 75-59-2. Sicut agens alcalinum metallicum liberum, TMAH substitutum efficax pro basium inorganicis sicut KOH vel NaOH in processibus ultra altam puritatem requirentibus.
Tetramethylammonium hydroxidum (TMAH), basis valida organica late in fabricandis semiconductoribus, photolithographia, etching et processibus purgandis.
| TEMS | SPECIFICATIONS |
| Aspectus | Hyalina pellucida liquida |
| Assay | XXV% aqua solution |
Net pondus 200kg tympanum vel 1000kg IBC tympanum.
Repone in consignato vase, custodi a lumine.
Metallum liberum:
Contaminationem ionica impedit in lagana semiconductoris sensitiva et machinis.
Fortis Alkaline Properties:
Praeclara ad anisotropicam etichsicam siliconis et photoresistae acidicae enucleandam.
Princeps Selectivity:
Praebet etching rates moderata cum minimis undercutting in microfabricatione.
Formulae versatiles:
Compatible cum variis concentratione et solventibus pro consuetudine elit, etchant, vel mundiores solutiones.
Effective Purgatio et spoliatio;
photoresist residua removet efficienter salva integritate superficiei.
TMAH est essentialis productionis semiconductoris modernae et ultra;
Photoresist Developer: Standard in photolithographia concentration ad solvendum expositum photoresist.
Silicon Etchant anisotropicum: Usus laganum siliconis praecise in MEMS exemplaria et circuitus integrales.
Photoresist DENUDATOR et Post-Etch Lautus: removet residua sine contagione metalli.
Plana Panel Displays, PCBs, et Sensores: Critica ad tabulas LCD/OLED fabricandas et tabulas circa tabulas impressas pertinentes.
Phase translatio catalyst in synthesi organica.
Surfactant in productione ferrea et stabilizationis nanoparticulae.
Formula componentis in polymerorum, electrolytorum, zeolitarum, et applicationum energiae repono.
Thermochemolysis et DNA microarray purgatio in uncinis investigandis.
Q: TMAH tutum est pro usu?
A: N. TMAH valde mordax et acute toxicus. Extrema cautela tractari debet utens plena tutela personali instrumento ac propria machinatione moderante. Quaelibet pellicula detectio immediate medicinae operam requirit.
Q: Cur TMAH praefertur KOH vel NaOH in semiconductoribus?
A: TMAH est metallicus-liberus, contagione lagani et machinis prohibens dum optimam engraving et evolutionis effectum providens.
Q: Quae sunt praecipua pericula TMAH?
A: Gravis chemicus ardet ad cutem et oculos et ad systemicam toxicitatem ducere potest per effusio cutis. Etiam ambitu nocet.
Q: Quomodo TMAH condi?
A: Repone in vasis stricte signatis in spatio frigido, sicco, bene ventilato ab acidis, oxidizers, et aere.
Q: Potest TMAH adhiberi in cibo vel medicamentis medicamentis?
A: N. TMAH destinatur ad industrialem, laboratorium et electronicum solum utendum, neque ad esum, medicamentum, vel ad medicamenta medicanda apta est.
Pro COA, TDS, SDS vel producta cognata, nos tange quaeso:
Inscriptio: mandy@aozunchem.com
Whatsapp: +86- 18452425579
CONFIRMATIO CERTIFICATE
