Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) ialah sebatian ammonium kuaterner dengan Nombor CAS 75-59-2. Sebagai agen alkali bebas ion logam, TMAH berfungsi sebagai pengganti berkesan untuk bes tak organik seperti KOH atau NaOH dalam proses yang memerlukan ketulenan ultra tinggi.

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH), asas organik berkuasa yang digunakan secara meluas dalam pembuatan semikonduktor, fotolitografi, etsa dan proses pembersihan.

Spesifikasi Teknikal

TEMS	SPESIFIKASI
Penampilan	Cecair lutsinar tidak berwarna
Ujian	25% larutan air

Pembungkusan & Penyimpanan

• Berat bersih 200kg drum atau 1000kg IBC drum.

• Simpan dalam bekas bertutup rapat, lindungi daripada cahaya.

Faedah Utama Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

Bebas Ion Logam:

Menghalang pencemaran ionik dalam wafer dan peranti semikonduktor sensitif.

Sifat Alkali Kuat:

Cemerlang untuk etsa anisotropik silikon dan membangunkan photoresists berasid.

Selektif Tinggi:

Menyediakan kadar goresan terkawal dengan pemotongan minimum dalam fabrikasi mikro.

Formulasi Serbaguna:

Serasi dengan pelbagai kepekatan dan pelarut untuk pembangun tersuai, etchant atau penyelesaian yang lebih bersih.

Pembersihan dan Pelucutan Berkesan:

Mengeluarkan sisa fotoresist dengan cekap sambil mengekalkan integriti permukaan.

Aplikasi Utama Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH)

TMAH adalah penting dalam pengeluaran semikonduktor moden dan seterusnya:

Industri Semikonduktor dan Elektronik

• Pembangun Photoresist: Standard dalam kepekatan fotolitografi untuk melarutkan photoresist terdedah.

• Anisotropik Silicon Etchant: Digunakan untuk corak wafer silikon yang tepat dalam MEMS dan litar bersepadu.

• Photoresist Stripper dan Post-Etch Cleaner: Mengeluarkan sisa tanpa pencemaran logam.

• Paparan Panel Rata, PCB dan Penderia: Kritikal untuk mengeluarkan panel LCD/OLED dan papan litar bercetak.

Kegunaan Industri Lain

• Pemangkin pemindahan fasa dalam sintesis organik.

• Surfaktan dalam pengeluaran ferrofluid dan penstabilan zarah nano.

• Komponen perumusan dalam polimer, elektrolit, zeolit, dan aplikasi penyimpanan tenaga.

• Thermochemolysis dan pembersihan microarray DNA dalam tetapan penyelidikan.

Soalan Lazim (Soalan Lazim)

S: Adakah TMAH selamat untuk digunakan?

J: Tidak. TMAH sangat menghakis dan sangat toksik. Ia mesti dikendalikan dengan sangat berhati-hati menggunakan peralatan perlindungan peribadi yang lengkap dan kawalan kejuruteraan yang betul. Sebarang pendedahan kulit memerlukan perhatian perubatan segera.

S: Mengapakah TMAH diutamakan berbanding KOH atau NaOH dalam semikonduktor?

J: TMAH adalah bebas ion logam, menghalang pencemaran wafer dan peranti sambil memberikan etsa yang sangat baik dan membangunkan prestasi.

S: Apakah bahaya utama TMAH?

J: Ia menyebabkan luka bakar kimia yang teruk pada kulit dan mata dan boleh membawa kepada ketoksikan sistemik melalui penyerapan kulit. Ia juga berbahaya kepada alam sekitar.

S: Bagaimanakah TMAH perlu disimpan?

J: Simpan dalam bekas bertutup rapat di kawasan yang sejuk, kering, berventilasi baik dari asid, pengoksida dan udara.

S: Bolehkah TMAH digunakan dalam aplikasi makanan atau farmaseutikal?

J: Tidak. TMAH bertujuan untuk kegunaan industri, makmal dan elektronik sahaja dan tidak sesuai untuk aplikasi makanan, ubat atau kosmetik.

Hubungi Kami

Untuk COA, TDS, SDS atau produk berkaitan, sila hubungi kami di:

e-mel: mandy@aozunchem.com

WhatsApp:  +86- 18452425579

SIJIL PENGESAHAN