Tetrametilamonija hidroksīds (TMAH)

Tetrametilamonija hidroksīds (TMAH) ir kvartāra amonija savienojums ar CAS numuru 75-59-2. Kā metālu jonu nesaturošs sārmains līdzeklis TMAH kalpo kā efektīvs neorganisko bāzu, piemēram, KOH vai NaOH, aizstājējs procesos, kuriem nepieciešama īpaši augsta tīrība.

Tetrametilamonija hidroksīds (TMAH), jaudīga organiskā bāze, ko plaši izmanto pusvadītāju ražošanā, fotolitogrāfijas, kodināšanas un tīrīšanas procesos.

Tehniskās specifikācijas

TEMS	SPECIFIKĀCIJAS
Izskats	Bezkrāsains caurspīdīgs šķidrums
Pārbaude	25% ūdens šķīdums

Iepakojums un uzglabāšana

• Neto svars 200kg cilindrs vai 1000kg IBC cilindrs.

• Uzglabāt cieši noslēgtā traukā, sargāt no gaismas.

Tetrametilamonija hidroksīda (TMAH) galvenās priekšrocības

Bez metāla jonu:

Novērš jonu piesārņojumu jutīgās pusvadītāju plāksnēs un ierīcēs.

Spēcīgas sārma īpašības:

Lieliski piemērots silīcija anizotropai kodināšanai un skābju fotorezistu attīstīšanai.

Augsta selektivitāte:

Nodrošina kontrolētu kodināšanas ātrumu ar minimālu samazinājumu mikroražošanā.

Daudzpusīgas formulas:

Savietojams ar dažādām koncentrācijām un šķīdinātājiem pielāgotiem izstrādātājiem, kodinātājiem vai tīrītājiem.

Efektīva tīrīšana un noņemšana:

Efektīvi noņem fotorezista atlikumus, vienlaikus saglabājot virsmas integritāti.

Primārie pielietojumi Tetrametilamonija hidroksīds (TMAH)

TMAH ir būtiska mūsdienu pusvadītāju ražošanā un ne tikai:

Pusvadītāju un elektronikas rūpniecība

• Fotorezista izstrādātājs: standarta fotolitogrāfijas koncentrācija, lai izšķīdinātu eksponēto fotorezistu.

• Anizotropais silīcija kodinātājs: izmanto precīzai silīcija plāksnīšu rakstīšanai MEMS un integrālajās shēmās.

• Photoresist Stripper un Post-Etch Cleaner: Noņem atlikumus bez metāla piesārņojuma.

• Plakanie paneļa displeji, PCB un sensori: ļoti svarīgi LCD/OLED paneļu un iespiedshēmu plates ražošanai.

Citi rūpnieciski lietojumi

• Fāzes pārneses katalizators organiskajā sintēzē.

• Virsmaktīvā viela ferofluīda ražošanā un nanodaļiņu stabilizācijā.

• Formulācijas sastāvdaļa polimēros, elektrolītos, ceolītos un enerģijas uzkrāšanas lietojumos.

• Termokemolīze un DNS mikromasīvu tīrīšana pētniecības apstākļos.

Bieži uzdotie jautājumi (FAQ)

J: Vai TMAH lietošana ir droša?

A: Nē. TMAH ir ļoti kodīgs un akūti toksisks. Ar to jārīkojas ļoti piesardzīgi, izmantojot pilnus individuālos aizsardzības līdzekļus un atbilstošu inženiertehnisko kontroli. Jebkurai ādas iedarbībai nepieciešama tūlītēja medicīniska palīdzība.

J: Kāpēc pusvadītājos priekšroka tiek dota TMAH, nevis KOH vai NaOH?

A: TMAH ir bez metāla jonu, novēršot vafeļu un ierīču piesārņojumu, vienlaikus nodrošinot izcilu kodināšanu un attīstot veiktspēju.

J: Kādi ir galvenie TMAH apdraudējumi?

A: Tas izraisa smagus ķīmiskus ādas un acu apdegumus un var izraisīt sistēmisku toksicitāti, absorbējoties ādā. Tas ir arī kaitīgs videi.

J: Kā jāuzglabā TMAH?

A: Uzglabāt cieši noslēgtos traukos vēsā, sausā, labi vēdināmā vietā, prom no skābēm, oksidētājiem un gaisa.

J: Vai TMAH var izmantot pārtikā vai farmācijā?

A: Nē. TMAH ir paredzēts tikai rūpnieciskai, laboratorijas un elektronikas lietošanai un nav piemērots lietošanai pārtikā, zālēm vai kosmētikā.

Sazinieties ar mums

Par COA, TDS, SDS vai saistītiem produktiem, lūdzu, sazinieties ar mums:

E-pasts: mandy@aozunchem.com

WhatsApp:  +86- 18452425579

AUTENTIKĀCIJAS SERTIFIKĀTS