872-50-4
C5H9NO
99.13
212-828-1
187 °F
| Verfügbarkeit: | |
|---|---|
BESCHREIBUNG
Analyseprojekt |
Tatsächlicher Messwert |
Elektronische Füllstandsanzeigen |
Testmethode |
Aussehen |
Farblose transparente Flüssigkeit |
Klare, fast wasserweiße Flüssigkeit |
Visualisierung |
N-Methylpyrrolidon, % (m/m) |
99.95 |
≥ 99,90 |
GB/T 27563-2011 |
Feuchtigkeit, % (m/m) |
0.0072 |
≤ 0,020 |
GB/T 6283-2008 |
Chromatizität, Hazen-Einheiten (Platin-Kobalt-Farbcode) |
<5 |
≤ 15 |
GB/T 3143-1982 |
Dichte (20 ℃), g/cm ⊃3; |
1.0323 |
1,0280 ~ 1,0350 |
GB/T 27563-2011 |
Brechungsindex (nD20) |
1.471 |
1,465 ~ 1,472 |
GB/T 27563-2011 |
PH-Wert [(1 ml/10 ml) wässrige Lösung] |
8.7 |
6,0 ~ 9,0 |
GB/T 27563-2011 |
Gesamtamin (berechnet als CH3NH2), % (m/m) |
0.0005 |
≤ 0,0030 |
GB/T 27563-2011 |
Kalzium, ug/kg |
7 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Zink, ug/kg |
11 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Magnesium, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Chrom, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Cadmium, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Blei, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Nickel, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Mangan, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Kupfer, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Titan, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Aluminium, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Kobalt, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Metallion, ug/kg |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Anhang: |
<5 |
≤ 20 |
HG/T 4989-2016 |
Lösungsmittel: NMP ist ein effizientes organisches Lösungsmittel, das zum Auflösen vieler organischer Verbindungen, einschließlich Polymeren, Harzen, Beschichtungen und Kunststoffen, verwendet werden kann. Es wird in der industriellen Produktion häufig zum Auflösen und Behandeln verschiedener Materialien eingesetzt.
Polymerindustrie: NMP spielt eine entscheidende Rolle bei der Polymerherstellung, insbesondere bei der Herstellung von Polyamidfasern und Polyamidharzen. Es wird als Lösungsmittel verwendet, um die Auflösung von Polymeren und die Bildung des gewünschten Produkts zu unterstützen.

Herstellung elektronischer Geräte: NMP wird zur Reinigung und Entfernung von Verunreinigungen und Rückständen aus elektronischen Geräten verwendet. Es wird in der Halbleiterindustrie häufig zur Reinigung von Fotolacken und zur Entfernung organischer Oberflächenverunreinigungen eingesetzt.
Farben- und Beschichtungsindustrie: NMP wird als leistungsstarkes Beschichtungslösungsmittel häufig bei der Herstellung von Farben und Beschichtungen eingesetzt und trägt zur Verbesserung der Produktqualität und -leistung bei.

Arzneimittel- und Kosmetikherstellung: NMP findet auch einige Anwendungen in der Pharma- und Kosmetikindustrie, beispielsweise als Lösungsmittel für die Extraktion und Zubereitung bestimmter Arzneimittel- oder Kosmetikinhaltsstoffe.




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